GEW-PBLC系列清洗-幹燥機是潔定Getinge個(gè)無菌處理(lǐ)系統中不可(kě)分割的一部分。潔定Getinge GEW系列清洗-幹燥機專為(wèi)
滿足制(zhì)藥工業需求而設計(jì)的。它以一個(gè)通(tōng)用型的清洗-幹燥機為(wèi)基礎,通(tōng)過配置的改變,可(kě)以滿足不同用戶的不同需求。
基礎模塊的清潔能力已遠高(gāo)于行(xíng)業标準的要求。清洗艙由316L不鏽鋼制(zhì)成,并經過抛光和(hé)表面鈍化,不存水(shuǐ)。框架材料為(wèi)
304不鏽鋼,配以316L不鏽鋼面闆,經久耐腐蝕。
鉸接式維修門(mén),開(kāi)在機器(qì)的前面,便于保養維護。
清洗-幹燥機的鋼化玻璃門(mén)為(wèi)垂直滑動式,全自動門(mén)并配有(yǒu)安全系統,可(kě)保護操作(zuò)者,操作(zuò)簡便;使用符合人(rén)體(tǐ)工程學要求
的推車(chē)和(hé)層架系統裝卸載。
設備的管道(dào)系統全部采用316L不鏽鋼,按衛生(shēng)級标準裝配,全自動滾機焊,所有(yǒu)浸潤面的最小(xiǎo)坡度為(wèi)2%。所有(yǒu)焊縫都經
光學孔徑儀檢查,檢查結果均記錄在案,以備核查。
本系列清洗-幹燥機共有(yǒu)4個(gè)型号,每個(gè)型号又有(yǒu)不同配置可(kě)供選擇:
GEW P系列
适用于藥品生(shēng)産企業。GEW P系列清洗幹燥機與其他功能模塊構成的系統,可(kě)滿足對零部件及組件的嚴格清潔需求。
GEW B系列
對生(shēng)物工程制(zhì)藥行(xíng)業而言,因産品不同,其技(jì)術(shù)要求及清潔要求也不盡相同。GEW B系列清洗幹燥機與GEW P系列采用同
一平台,但(dàn)特别針對生(shēng)物工程用戶的需求而進行(xíng)了優化。
GEW L系列
主要适用于實驗室,對玻璃器(qì)皿和(hé)用具實行(xíng)高(gāo)效的清潔。實驗室的預算(suàn)有(yǒu)限,但(dàn)對設備的有(yǒu)效性和(hé)可(kě)重複性要求很(hěn)高(gāo),
GEW L系列清洗-幹燥機很(hěn)好地滿足了上(shàng)述要求。
GEW C系列
越來(lái)越多(duō)的化妝品行(xíng)業,也開(kāi)始要求符合cGMP清潔。本系列清洗-幹燥機可(kě)遊刃有(yǒu)餘地使用各種化學清潔劑,以徹底清理(lǐ)
各種難治性污漬。
主要優點
符合ASME BPE要求的處理(lǐ)系統及其組件
帶有(yǒu)垂直出口和(hé)監測系統的衛生(shēng)級沃碦莎(Sanitary Waukesha)3A主循環泵
處理(lǐ)系統采用鍛接蓋米(GEMU)316L衛生(shēng)級隔膜閥,符合BPE及USPVI級的要求
所有(yǒu)與處理(lǐ)過程有(yǒu)關的接觸性元器(qì)件均采用316L不鏽鋼,其中密封圈采用的矽膠均符合FDA 21CFRPart 177中有(yǒu)關GMP的
規定
管道(dào)系統中的死角長度不超過4D,所有(yǒu)濕面的傾斜率不低(dī)于2%
腔體(tǐ)的轉角半徑為(wèi)12mm,水(shuǐ)環路抛光後光潔度RA<0.6
符合GAMP 4要求的完備的文件,包括焊接文件,鍛尖及Rockwell/Allen Bradley光學孔徑儀檢查結果
多(duō)種全自動化操控系統備選--潔定PACS、Rockwell/Allen Bradley或者Siemens系統